同方威视技术股份有限公司;清华大学张丽获国家专利权
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龙图腾网获悉同方威视技术股份有限公司;清华大学申请的专利标定件、标定系统和标定方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119395782B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411745416.6,技术领域涉及:G01V13/00;该发明授权标定件、标定系统和标定方法是由张丽;李亮;洪明志;王子楠;张元祥;常铭;姜天胜设计研发完成,并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本标定件、标定系统和标定方法在说明书摘要公布了:本公开提供了一种标定件,该标定件与待标定的辐射成像设备的扫描对象具有基本一致的形状,标定件的尺寸与扫描对象的尺寸具有预定比例关系。本公开还提供了一种标定系统和标定方法。
本发明授权标定件、标定系统和标定方法在权利要求书中公布了:1.一种标定件,其特征在于,所述标定件与待标定的辐射成像设备的扫描对象具有基本一致的形状,所述标定件的尺寸与所述扫描对象的尺寸具有预定比例关系; 所述标定件包括: 第一表面; 第二表面,与所述第一表面相对; 标定部,位于所述第一表面和所述第二表面之间,所述标定部包括多个凹槽,其中至少两个凹槽的深度不同,所述多个凹槽沿射线的路径层叠设置,所述凹槽的深度沿朝着所述标定件的内部延伸方向计算; 其中,所述辐射成像设备的射线源发射的至少部分射线依次穿过所述第一表面、所述多个凹槽和所述第二表面被所述辐射成像设备的探测器接收,得到辐射图像,所述辐射图像用来提取每个凹槽的深度。
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