上海新毅东半导体科技有限公司张琪获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新毅东半导体科技有限公司申请的专利光刻机的微环境控制架构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119439646B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411815119.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻机的微环境控制架构是由张琪;符友银;陈龙;陈钰思阳设计研发完成，并于2024-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻机的微环境控制架构在说明书摘要公布了：提供了一种光刻机的微环境控制架构。该光刻机的微环境控制架构包括：主控制器；温度控制子闭环架构，用于由所述主控制器基于温控器的状态实现温度控制；基础设备控制子闭环架构，用于由所述主控制器与基础设备和相应的传感器连接以控制所述基础设备的运行并实时监测所述基础设备的运行状态；以及，安全控制子闭环架构，用于由所述主控制器通过安全控制器来基于安全相关的传感器进行设备安全二重保障。这样，通过主控制器与子设备相关的多个子闭环控制架构来实现微环境控制，提升了整机闭环控制性能。
本发明授权光刻机的微环境控制架构在权利要求书中公布了：1.一种光刻机的微环境控制架构，包括： 主控制器； 温度控制子闭环架构，用于由所述主控制器基于温控器的状态实现温度控制； 基础设备控制子闭环架构，用于由所述主控制器与基础设备和相应的传感器连接以控制所述基础设备的运行并实时监测所述基础设备的运行状态；以及， 安全控制子闭环架构，用于由所述主控制器通过安全控制器来基于安全相关的传感器进行设备安全二重保障。
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