武汉华星光电半导体显示技术有限公司覃跃获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利叠层器件及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119630176B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411604590.9,技术领域涉及:H10K50/13;该发明授权叠层器件及显示装置是由覃跃;吴凯龙;李们在;李林涛;赵决文;袁莉设计研发完成,并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本叠层器件及显示装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种叠层器件及显示装置,所述叠层器件包括电子阻挡共通层,相比于非共通设置的电子阻挡功能层,简化了叠层器件的结构,同时在发光单元内添加辅助掺杂材料,且辅助掺杂材料的能级介于主体材料的能级与主掺杂材料的能级之间,使得发光单元内主体材料、主掺杂材料与辅助掺杂材料在能量转移时,能量由主体材料优先转移至辅助掺杂材料,再由辅助掺杂材料转移至主掺杂材料,使得能量转移更加容易,且在能量转移过程中能量损失减小,对发光单元内材料本身的伤害降低,从而延长了叠层器件的寿命。
本发明授权叠层器件及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种叠层器件,其特征在于,包括: 第一电极,设置于衬底的一侧; 多个发光单元,设置于所述第一电极背离衬底的一侧; 电荷生成层,设置于相邻所述发光单元之间; 第二电极,设置于所述电荷生成层背离所述第一电极的一侧; 其中,至少一个所述发光单元与所述第一电极之间设置有电子阻挡共通层,所述电子阻挡共通层在衬底上的正投影至少覆盖所述发光单元在衬底上的正投影;所述电子阻挡共通层设置为蓝色电子阻挡层; 至少一个所述发光单元包括主体材料、主掺杂材料与辅助掺杂材料,所述辅助掺杂材料的能级介于所述主体材料的能级与所述主掺杂材料的能级之间;所述主体材料的LUMO能级大于所述辅助掺杂材料的LUMO能级,所述辅助掺杂材料的LUMO能级大于所述主掺杂材料的LUMO能级;所述主体材料的HOMO能级小于所述辅助掺杂材料的HOMO能级,所述辅助掺杂材料的HOMO能级小于所述主掺杂材料的HOMO能级。
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