东华大学董杰获国家专利权
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龙图腾网获悉东华大学申请的专利一种光敏聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺组合物及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119735805B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411850419.6，技术领域涉及：C08G73/10；该发明授权一种光敏聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺组合物及其制备方法是由董杰;张清华;步颜倩;陆忠刚;李琇廷;赵昕设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光敏聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺组合物及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光敏聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺组合物及其制备方法。所述光敏聚酰亚胺树脂具有如式1所示分子结构。本发明将具有疏水特性的氨基化超支化聚硅氧烷单元引入到聚酰亚胺分子主链中，形成分子链间微交联结构，以及光敏单元的交联反应有效提高光刻胶的分辨率，并降低图案化薄膜的热膨胀系数；超支化聚硅氧烷中丰富Si‑O‑Si单元及CF3单元的低极性和疏水特性能够降低图案化薄膜的介电常数；Si‑O‑Si网络单元与玻璃及硅片具有更好的界面相容性从而形成更强的界面作用力，提升光刻胶与基底之间的粘结力。
本发明授权一种光敏聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺组合物及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光敏聚酰亚胺树脂，其特征在于，分子结构如下所示： ； 其中，X结构源自氨基化超支化聚硅氧烷NH2-HBPSi或含三氟甲基的氨基化超支化聚硅氧烷NH2-CF3-HBPSi，其支化度为0.5~0.9，表面氨基含量为0.1~0.4mmolg； Y结构源自含光敏单元的二胺单体，为如下结构中的一种： ， 式中R基团为如下结构中的一种： ； Ar结构源自二酐单体； 重复单元m:n的摩尔比为0.5:9.5~3:7。
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