深圳清力技术有限公司夏凯获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳清力技术有限公司申请的专利一种具有弧形曲面的光学元件及其加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119738900B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510029260.X，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权一种具有弧形曲面的光学元件及其加工方法是由夏凯;温碧泉;黄豆;潘旭捷设计研发完成，并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有弧形曲面的光学元件及其加工方法在说明书摘要公布了：本申请涉及光学元件加工领域，公开了一种具有弧形曲面的光学元件及其加工方法，包括：获得预处理基底，预处理基底包括基底和位于基底表面的图形化光刻胶，图形化光刻胶远离基底的表面为弧形曲面；软化图形化光刻胶，并利用等离子体轰击图形化光刻胶，形成处理后光刻胶，处理后光刻胶远离基底的表面为弧形曲面；以处理后光刻胶作为掩膜刻蚀基底，在基底的表面上形成弧形曲面，得到具有弧形曲面的光学元件。通过对图形化光刻胶进行软化，并使用等离子体轰击弧形表面，可以使图形化光刻胶表面平坦化，以处理后光刻胶作为掩膜对基底进行刻蚀，将处理后光刻胶的弧形表面面形转移至基底上，进而使得基底上的弧形表面的粗糙度降低。
本发明授权一种具有弧形曲面的光学元件及其加工方法在权利要求书中公布了：1.一种具有弧形曲面的光学元件的加工方法，其特征在于，包括： 获得预处理基底，所述预处理基底包括基底和位于所述基底表面的图形化光刻胶，所述图形化光刻胶远离所述基底的表面为弧形曲面； 软化所述图形化光刻胶，并利用等离子体轰击所述图形化光刻胶，形成处理后光刻胶，所述处理后光刻胶远离所述基底的表面为弧形曲面； 以所述处理后光刻胶作为掩膜刻蚀所述基底，在所述基底的表面上形成弧形曲面，得到具有弧形曲面的光学元件； 软化所述图形化光刻胶，并利用等离子体轰击所述图形化光刻胶包括：将所述预处理基底置于等离子体去胶机的腔体中，控制所述腔体升温，以软化所述图形化光刻胶，并通过等离子体对所述图形化光刻胶的表面进行轰击，所述腔体升温的温度范围为70℃～80℃。
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