湖北鼎龙芯盛科技有限公司;鼎龙(潜江)新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司王鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北鼎龙芯盛科技有限公司;鼎龙(潜江)新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利鎓盐类化合物，光致产酸剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119751407B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411908274.0，技术领域涉及：C07D317/72；该发明授权鎓盐类化合物，光致产酸剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法是由王鹏;欧阳吉虹;高越;刘敏设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本鎓盐类化合物，光致产酸剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种鎓盐类化合物，光致产酸剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法，涉及光刻胶领域。本发明的鎓盐类化合物具有特定的结构通式：其中，R1、R2、R3、R4各自独立的为杂原子取代或未取代的C1～C20脂肪链状烃基或环烷烃基的一种或多种组合。该种结构通式的鎓盐类化合物在有机溶剂中能完全可溶并可均匀分散，用作抗蚀剂组合物时可保证组合物的均一性。本发明的鎓盐类化合物作为光产酸剂用于抗蚀剂组合物时，其大位阻基团能够有效地降低酸扩散长度，提升光刻图案的LWR性能，而且鎓盐类化合物中的缩醛和酯基结构使得其自身容易分解，能最大程度的降低对于环境的影响。
本发明授权鎓盐类化合物，光致产酸剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种鎓盐类化合物，其特征在于，其结构通式为： ， 其中，R1、R2、R3、R4各自独立的为环戊烷基，环己烷基中的一种或两者组合； 阳离子Z+选自硫鎓盐阳离子。
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