上海谙邦半导体设备有限公司邱勇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海谙邦半导体设备有限公司申请的专利一种反应腔装置及其工作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112447489B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011566713.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种反应腔装置及其工作方法是由邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名设计研发完成，并于2020-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种反应腔装置及其工作方法在说明书摘要公布了：一种反应腔装置及其工作方法，反应腔装置包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；环绕所述晶圆承载平台的缓冲环，所述缓冲环适于在垂直于晶圆承载平台上表面的方向上进行移动。所述反应腔装置能够调节整个晶圆表面反应速率的均匀性。
本发明授权一种反应腔装置及其工作方法在权利要求书中公布了：1.一种反应腔装置，其特征在于，包括： 反应腔主体； 贯穿所述反应腔主体的底壁的出气口； 位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆； 环绕所述晶圆承载平台的缓冲环，所述缓冲环适于在垂直于晶圆承载平台上表面的方向上进行移动；所述缓冲环的材料为多孔结构材料；所述缓冲环的侧壁与所述晶圆承载平台的上表面之间的夹角为钝角，所述钝角小于或等于120度；自所述缓冲环的顶部至所述缓冲环的底部的方向排布有多个开口；所述开口自所述缓冲环的内壁至所述缓冲环的外壁贯穿所述缓冲环；所述开口在所述缓冲环的侧壁的投影形状沿着所述缓冲环的周向延伸； 在所述反应腔主体的顶部设置的隔离栅网；所述隔离栅网用于过滤掉等离子体内的带电粒子，以及让等离子体内的化学活性基团会自由通过进入反应腔主体到达晶圆表面与晶圆表面的光刻胶进行灰化反应。
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