东京毅力科创株式会社丸本洋获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114242611B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111025262.X，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由丸本洋设计研发完成，并于2021-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够对每个产品基板掌握液处理的结果是否良好。本公开的一个方式的基板处理方法包括进行液处理的工序、进行检测的工序、进行生成的工序以及进行判定的工序。在进行液处理的工序中，使用处理单元对基板进行液处理。在进行检测的工序中，使用设置于处理单元的多个传感器，来分别检测液处理中的基板的中心部的温度和基板的端部的温度。在进行生成的工序中，基于规定液处理的处理条件的一个或多个参数值、通过进行检测的工序检测出的基板的中心部的温度以及基板的端部的温度，来生成表示液处理中的基板的面内温度分布的温度分布信息。在进行判定的工序中，基于温度分布信息来判定液处理的结果是否良好。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括以下工序： 使用处理单元来对基板进行液处理，所述处理单元具备将所述基板水平地保持的基板保持机构、以及朝向被所述基板保持机构保持的所述基板喷出处理液的处理液供给部； 使用设置于所述处理单元的多个传感器，来分别检测所述液处理中的所述基板的中心部的温度和所述基板的端部的温度； 基于规定所述液处理的处理条件的一个或多个参数值、通过进行所述检测的工序检测出的所述基板的中心部的温度以及所述基板的端部的温度，来生成表示所述液处理中的所述基板的面内温度分布的温度分布信息；以及 基于所述温度分布信息来判定所述液处理的结果是否良好， 其中，所述基板保持机构具备用于把持所述基板的端部的多个把持部， 在进行所述检测的工序中，将由设置于所述多个把持部中的至少一个把持部的温度传感器检测的温度检测为所述基板的端部的温度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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