ASML荷兰有限公司蒋军获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利光电演化缺陷检查获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114364990B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080061112.1,技术领域涉及:G01Q30/02;该发明授权光电演化缺陷检查是由蒋军;任志榆;叶宁;张剑设计研发完成,并于2020-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本光电演化缺陷检查在说明书摘要公布了:一种带电粒子束系统可以包括初级源100、次级源200和控制器。初级源可以被配置为将带电粒子束241沿光轴发射到样本201的区域上。次级源可以被配置为辐照242样本的区域。控制器可以被配置为控制带电粒子束系统改变次级源的输出的参数。一种成像方法可以包括:将带电粒子束241发射到样本201的区域上,用次级源200辐照242样本的区域,以及改变次级源的输出的参数。
本发明授权光电演化缺陷检查在权利要求书中公布了:1.一种带电粒子束系统,包括: 初级源,被配置为将带电粒子束沿光轴发射到样本的区域上; 次级源,被配置为辐照所述样本的所述区域;以及 控制器,具有电路系统并且被配置为: 控制所述带电粒子束系统以随着时间改变所述次级源的输出的参数; 在第一时刻,以所述次级源的所述输出的第一参数获取所述样本的所述区域的第一图像;在第二时刻,以所述次级源的所述输出的第二参数获取所述样本的所述区域的第二图像;以及 分析针对所述区域的所述第一图像和所述第二图像,以检测缺陷。
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