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龙图腾网获悉成都大学申请的专利一种光固化3D打印制备PDC-RESiOC陶瓷的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118546002B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410666182.X，技术领域涉及：C04B35/56；该发明授权一种光固化3D打印制备PDC-RESiOC陶瓷的方法是由魏汉军;唐路;陈思宇;陈智勇;周春林;李颖设计研发完成，并于2024-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光固化3D打印制备PDC-RESiOC陶瓷的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种光固化3D打印制备PDC‑RESiOC陶瓷的方法，属于电磁波吸收材料技术领域。本发明将四氢呋喃和三丙二醇单甲醚混匀得到溶液A，依次将聚砜和3‑甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷溶解于溶液A中，酸性水解12～14h得到溶液C；在温度45～55℃下蒸发去除溶液C中溶剂四氢呋喃，保留溶剂三丙二醇单甲醚得到溶液D；将三羟甲基丙烷三丙烯酸酯加入到溶液D中混合均匀，再依次加入苯基双2,4,6‑三甲基苯甲酰基氧化膦和稀土盐，混合均匀得到光固化预制溶液；根据预设计陶瓷结构，光固化预制溶液经3D打印得到3D预制件；3D预制件置于氩气氛围下加热至温度900～1200℃并恒温热解2～4h，得到致密PDC‑RESiOC陶瓷。本发明可通过控制稀土盐的含量，调整电磁参数和微波吸收性能。

本发明授权一种光固化3D打印制备PDC-RESiOC陶瓷的方法在权利要求书中公布了：1.一种光固化3D打印制备PDC-RESiOC陶瓷的方法，其特征在于，具体步骤如下： 1将四氢呋喃和三丙二醇单甲醚混匀得到溶液A，将聚砜溶解于溶液A中得到溶液B，将3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷溶解于溶液B中，加入盐酸调节溶液pH值为5.3~6.3并酸性水解12~14h得到溶液C； 2在温度45~55℃下蒸发去除溶液C中溶剂四氢呋喃，保留溶剂三丙二醇单甲醚得到溶液D； 3将三羟甲基丙烷三丙烯酸酯加入到溶液D中混合均匀，再依次加入苯基双2,4,6-三甲基苯甲酰基氧化膦和稀土盐，混合均匀得到光固化预制溶液；所述三羟甲基丙烷三丙烯酸酯的添加量为溶液D的5~10wt%，苯基双2,4,6-三甲基苯甲酰基氧化膦的添加量为溶液D的0.1~0.4wt%，稀土盐的添加量为溶液D的1~5wt%； 4根据预设计陶瓷结构，光固化预制溶液经3D打印得到3D预制件； 53D预制件置于氩气氛围下加热至温度900~1200℃并恒温热解2~4h，得到致密PDC-RESiOC陶瓷。

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