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龙图腾网获悉广东工业大学申请的专利一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121018400B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511516992.8，技术领域涉及：B24B37/11；该发明授权一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法是由林俊强;阎秋生;王盛权;潘继生设计研发完成，并于2025-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法，抛光装置包括：主轴、工件台、抛光盘、导电型通孔泡沫垫、密封电解池、温度控制模块、动态集群磁场发生装置；抛光过程中，导电通孔泡沫垫作为电解骨架，提高电流利用率及全域阳极氧化均匀性，实现电化学阳极氧化速率在线精准调控；磁性颗粒在动态磁场作用下与泡沫垫协同，增强剪切屈服应力及磨粒把持力，提升机械去除的均匀性与稳定性。通过动态磁场集群效应实现磨粒更新与自锐，结合在线加工间隙调控，实现晶圆粗抛与精抛分阶段加工。本发明显著提高晶圆平坦化效率与表面质量，具有半导体功率器件制造应用前景及产业化价值。

本发明授权一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.将半导体晶圆片以导电胶均匀粘接并固定于主轴，主轴经碳刷与电源阳极电连接； S2.在抛光盘底部铜片上固定导电型通孔泡沫垫；以环氧树脂和玻璃胶将绝缘环亚克力固定成密封电解池，铜片的引脚经碳刷与电源阴极电连接，构建稳定的闭合电解回路； S3.通过抛光盘底部加热片、制冷片和温度传感器实时感知抛光浆液的温度并经无线网络传输至数显温度控制器，实现抛光浆液温度的在线监测与调控； S4.通过电化学参数、电解液成分与pH和温度参数在线调控化学腐蚀速率；在线设置加工间隙调控抛光垫力学特性，在动态磁场作用下，实现粗抛和精抛； 所述半导体晶圆电化学磁流变抛光装置包括：主轴、工件台、抛光盘、导电型通孔泡沫垫、密封电解池、温度控制模块、动态集群磁场发生装置，半导体晶圆片固定在与主轴连接的工件台上，导电型通孔泡沫垫固定在抛光盘底部的导电铜片上，导电型通孔泡沫垫、导电铜片和抛光盘构成了密封空间； 所述动态集群磁场发生装置采用凸轮机构实现集群永磁体整体偏摆运动，磁极转速和磁场强度可调；永磁铁集群组件为偏心自旋转运动的永磁极，由第一电机传递给主动轴，并经过主动齿轮组件传递给从动齿轮组件，最后通过凸轮机构实现永磁铁集群组件整体偏摆运动；抛光过程中设定的加工间隙与通孔泡沫垫的压缩量相匹配。

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