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龙图腾网获悉西安唐晶量子科技有限公司申请的专利一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121274851B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511851456.3，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法是由夏天文;龚平;刘邦;杨宇博;史康桥;王元设计研发完成，并于2025-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体厚度测量技术领域，尤其涉及一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法；方法包括：对于任一有效测量点，构建自适应带通滤波器，自适应带通滤波器的中心频率为有效测量点的校正频率中心，自适应带通滤波器的带宽与有效测量点的局部质量因子成反比；采用自适应带通滤波器对各测量点的初始频谱进行滤波，并基于滤波后的频谱计算外延片厚度。通过自适应滤波策略，能有效补偿频谱漂移与形变，从而更精确地计算外延片厚度，提高外延片测量的准确性与稳定性。

本发明授权一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法在权利要求书中公布了：1.一种基于激光干涉的VCSEL外延片厚度测量方法，其特征在于，包括：获取VCSEL外延片上多个预设测量点的初始频谱，并基于各测量点对应的初始频谱筛选出有效测量点； 对于任一有效测量点，根据有效测量点初始频谱的峰值频率和峰值强度计算初始频谱的初始频率中心，包括：将初始频谱的峰值频率与所有测量点峰值频率平均值的差值的归一化结果作为有效测量点的水平差异程度；将峰值强度与所有测量点峰值强度平均值的差异作为有效测量点的垂直差异程度；基于有效测量点的水平差异程度和垂直差异程度获取修正系数，将峰值频率与修正系数的乘积作为初始频率中心，其中，水平差异程度和垂直差异程度与修正系数负相关；基于初始频谱与理想频谱之间的差异构建局部质量因子； 对于任一有效测量点，基于该有效测量点构建邻域窗口，将邻域窗口中各有效测量点的初始频率中心加权求和的结果作为校正频率中心，其中，初始频率中心的权重与对应有效测量点的局部质量因子正相关； 对于任一有效测量点，构建自适应带通滤波器，自适应带通滤波器的中心频率为有效测量点的校正频率中心，自适应带通滤波器的带宽与有效测量点的局部质量因子成反比；采用自适应带通滤波器对各测量点的初始频谱进行滤波，并基于滤波后的频谱计算外延片厚度。

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