一塔半导体(安徽)有限公司王涛获国家专利权
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龙图腾网获悉一塔半导体(安徽)有限公司申请的专利化学气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224077528U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520468464.9，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型化学气相沉积设备是由王涛;王永设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，包括：设备主体，设备主体内形成有反应腔，反应腔的内壁上还形成有沿第一方向贯通反应腔的测温口，测温口内设有透光件，且透光件封堵测温口，待加工件适于运动至在第一方向上与测温口相对的位置；测温装置，测温装置设于设备主体外侧，测温装置包括红外测温仪、准直透镜和凹透镜，红外测温仪、准直透镜和凹透镜均与测温口在第一方向上相对设置，且准直透镜设于红外测温仪和凹透镜之间，凹透镜设于准直透镜朝向测温口的一侧。根据本实用新型的化学气相沉积设备，可以在化学气相沉积的过程中，对待加工件的温度进行非接触测量，并且测温的采集面积较大，可以提高测温精度。
本实用新型化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括： 设备主体，所述设备主体内形成有反应腔，所述反应腔用于对待加工件进行化学气相沉积，所述反应腔的内壁上还形成有沿第一方向贯通所述反应腔的测温口，所述测温口内设有透光件，且所述透光件封堵所述测温口，所述待加工件适于运动至在所述第一方向上与所述测温口相对的位置； 测温装置，所述测温装置设于所述设备主体外侧，所述测温装置包括红外测温仪、准直透镜和凹透镜，所述红外测温仪、所述准直透镜和所述凹透镜均与所述测温口在所述第一方向上相对设置，且所述准直透镜设于所述红外测温仪和所述凹透镜之间，所述凹透镜设于所述准直透镜朝向所述测温口的一侧。
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