应用材料公司黄浩权获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利利用第二流体分配的基板抛光边缘均匀性控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114346891B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111127684.8，技术领域涉及：B24B37/00；该发明授权利用第二流体分配的基板抛光边缘均匀性控制是由黄浩权;宋熺奎设计研发完成，并于2021-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本利用第二流体分配的基板抛光边缘均匀性控制在说明书摘要公布了：本文公开了一种用于在化学机械抛光CMP系统内将抛光液分配到抛光垫上的方法和设备。具体来说，本文的实施例涉及一种CMP系统，所述CMP系统具有设置在抛光垫之上的第一流体输送臂和第二流体输送臂以分配液体，诸如抛光液或水。第一流体输送臂设置成超过抛光垫半径的至少50％，而第二流体输送臂设置成超过抛光垫半径的小于50％。第二流体输送臂配置为将抛光液或水分配到抛光垫上，以影响基板边缘处的抛光速率。
本发明授权利用第二流体分配的基板抛光边缘均匀性控制在权利要求书中公布了：1.一种用于处理基板的设备，包括： 垫，所述垫设置在工作台上，其中所述垫具有垫半径和中心轴，所述垫半径从所述中心轴延伸； 承载组件，所述承载组件配置为设置在所述垫的表面上并且具有从所述承载组件的旋转轴延伸的载体半径，其中所述旋转轴设置在与所述中心轴相距第一径向距离处； 具有第一喷嘴的第一流体输送臂，所述第一流体输送臂配置成向在与所述中心轴相距第二径向距离处的所述垫上的第一点提供第一流体；以及 具有第二喷嘴的第二流体输送臂，所述第二流体输送臂配置成向所述垫上的第二点提供第二流体，所述第二点设置在与所述中心轴相距第三径向距离处，其中所述第二径向距离小于所述第一径向距离，并且所述第三径向距离大于或等于所述第二径向距离；以及 控制器，所述控制器适配成将所述第二流体输送臂的移动与所述承载组件的移动同步，以使提供到所述垫上的所述第二点的所述第二流体具有在所述承载组件下方的一致的径向进入点。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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