罗门哈斯电子材料有限责任公司;杜邦电子公司J·凯茨获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司;杜邦电子公司申请的专利光致抗蚀剂组合物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690552B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111513464.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法是由J·凯茨;B·马尔布雷希特;王德岩;M·H·小霍华德设计研发完成，并于2021-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在说明书摘要公布了：公开了一种光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，该第一聚合物包含第一重复单元，该第一重复单元包含酸不稳定基团；和第二聚合物，该第二聚合物包含衍生自一种或多种具有式4的单体的重复单元；光酸产生剂；以及溶剂，其中Z1、Z2、R1、R2、以及L是如本文所描述的，并且P是可聚合基团。
本发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含： 包含第一重复单元的第一聚合物，所述第一重复单元包含酸不稳定基团；和 第二聚合物，所述第二聚合物包含衍生自一种或多种具有式4a的单体的重复单元； 光酸产生剂；以及 溶剂， 4a 其中，在式4a中， Ra是氢、氟、氰基、取代或未取代的C1-10烷基、或取代或未取代的C1-10氟烷基， L是单键或多价连接基团， Z1和Z2是相同的，其中Z1和Z2选自单键、-O-、包含具有式-CO-的基团的二价连接基团、或包含具有式-CO-O-的基团的二价连接基团；并且 R1和R2各自独立地是取代或未取代的C1-30烷基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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