沃特世科技爱尔兰有限公司R·J·摩尔蒂希尔-史密斯获国家专利权
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龙图腾网获悉沃特世科技爱尔兰有限公司申请的专利使用产物离子碰撞截面信息进行样品分析的技术获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115004306B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180011591.0,技术领域涉及:G16B40/10;该发明授权使用产物离子碰撞截面信息进行样品分析的技术是由R·J·摩尔蒂希尔-史密斯;H·维塞尔斯;M·麦古拉设计研发完成,并于2021-01-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用产物离子碰撞截面信息进行样品分析的技术在说明书摘要公布了:本发明描述了用于确定产物离子的原子级配置的技术和装置。在一些实施方案中,产物离子CCS信息可用于确定产物离子的亚结构配置,诸如异构体。例如,在一个实施方案中,装置可包括至少一个存储器和逻辑,该逻辑耦接到该至少一个存储器以:接收多个产物离子的解析信息,该解析信息包括产物离子碰撞截面CCS信息;对于该多个产物离子中的至少一个产物离子,确定该产物离子CCS信息的方差值。本发明描述了其他实施方案。
本发明授权使用产物离子碰撞截面信息进行样品分析的技术在权利要求书中公布了:1.一种装置,包括: 至少一个存储器;以及 逻辑,所述逻辑耦接到所述至少一个存储器,所述逻辑用于: 接收针对多个产物离子的解析信息,所述解析信息包括产物离子碰撞截面CCS信息, 对于所述多个产物离子中的至少一个产物离子,确定所述产物离子CCS信息的方差值;以及 确定所述解析信息包括响应于所述方差值超过方差阈值的所述至少一个产物离子的多个子结构配置或多个异构体中的一个或多个的信息,来进行区分所述至少一个产物离子的异构体或排除所述至少一个产物离子的可能候选物中的一者或多者。
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