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中国人民解放军火箭军工程大学刘春桐获国家专利权

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龙图腾网获悉中国人民解放军火箭军工程大学申请的专利一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115330899B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211062053.7,技术领域涉及:G06T11/10;该发明授权一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法是由刘春桐;甘源滢;何祯鑫;李洪才;刘忠业设计研发完成,并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。

一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法在说明书摘要公布了:本发明属于数码迷彩伪装技术领域,具体地涉及一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法。包括:步骤1:对背景图像进行预分隔,然后获得步长、转角,以及步长概率分布Pl和转角概率分布Pθ;步骤2:进行背景图像的频次归一化和像素归一,获取边缘对应权重,然后构建拉普拉斯稀疏矩阵,并生成概率矩阵,接着匹配斑块标号,计算纹理斑块稠密度,自适应生成对应卷积模块,最后设计破坏性边缘;步骤3:进行匹配聚类主色,输出最终迷彩图案。本发明提出一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法,通过定义趋势函数估计出像素节点之间的边界概率,勾勒出数码迷彩斑块,最后填充背景主色调用以扭曲目标表面特征,实现数码迷彩图案设计。

本发明授权一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法在权利要求书中公布了:1.一种基于趋势函数约束的数码迷彩图案设计方法,其特征在于:包括: 步骤1:对背景图像进行预分隔,然后获得步长、转角,以及步长概率分布和转角概率分布; 步骤2:在步骤1的基础上,进行背景图像的频次归一化和像素归一化,获取边缘对应权重,然后构建拉普拉斯稀疏矩阵,并生成概率矩阵,接着匹配斑块标号,计算纹理斑块稠密度,根据背景图像中不同位置所对应的稠密度,生成相应的卷积尺寸,设计破坏性边缘;所述步骤2具体为: 步骤2.1:根据步骤1得到的步长概率分布和转角概率分布,按概率随机生成游走步长并归一化,得到步长参数为: ; 其中,表示归一化处理,表示按中的概率值生成对应集合中的某个数据; 步骤2.2:将背景图像中所有像素点坐标转换为线索引,按坐标顺序设定边索引,根据背景图像中的边索引假设,计算每个潜在边缘的像素差异,并进行归一化,像素参数为: ; 式中,为当前位置像素值,和分别表示坐标位置和的边索引,当前坐标为时,表示横向邻域坐标或纵向邻域坐标; 步骤2.3:在步骤2.1和步骤2.2的基础上,计算各项边索引对应的高斯权重信息W: ; 其中,和分别为和参数的系数,C为最小可选常数; 步骤2.4:根据步骤2.3的各项边索引和对应的高斯权重信息,以及边索引的数量,构建拉普拉斯稀疏矩阵: ; 其中,矩阵S由边索引和对应边权重信息构成,且行列等价于像素点总个数的稀疏方阵,表示构建对角矩阵; 此时,用于估计纹理斑块边缘的矩阵表示为, ; 其中,为包含k个迷彩斑块的核心像素点的稀疏矩阵,为非核心稀疏矩阵,为k阶单位矩阵; 步骤2.5:设置狄利克雷问题,通过求解组合狄利克雷问题进而求解拉普拉斯稀疏矩阵,得到概率矩阵,根据返回的行列最大值和索引信息,匹配纹理斑块标记; 步骤2.6:统计斑块的大小尺寸D,即每个斑块所占的图像像素数量,根据每个像素位置距离斑块边界的距离计算得到每个像素点的稠密度,并将所有数值归一化,接着根据稠密度大小,设计每个位置参与置换的卷积尺寸a,由计算获得; 步骤3:在步骤2处理的基础上,采用K-means聚类方法,对背景图像进行匹配聚类主色,输出最终迷彩图案。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国人民解放军火箭军工程大学,其通讯地址为:710025 陕西省西安市灞桥区洪庆街道同心路2号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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