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龙图腾网获悉上海精积微半导体技术有限公司申请的专利边缘位置检测方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115937235B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211537035.X，技术领域涉及：G06T7/13；该发明授权边缘位置检测方法及装置是由徐健;刘耀阳设计研发完成，并于2022-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本边缘位置检测方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种边缘位置检测方法及装置，涉及图像处理技术领域，所述边缘位置检测方法包括：获取目标区域，所述目标区域包含至少两种结构图像和边缘位置；选定至少一种周期性结构为目标结构图像，确定所述目标结构图像呈周期性变化的方向；在沿着所述周期性变化的方向上，依次选取若干周期图像；在所述目标结构图像中选取第一对比图像；对所述第一对比图像进行插值处理，以获取与所述周期图像相位和尺寸均一致的第二对比图像；获取所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果，以获取所述边缘位置。本发明能够得到两种不同周期性结构边缘或者周期性结构与非周期性结构之间的边缘位置的准确的检测结果。

本发明授权边缘位置检测方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种边缘位置检测方法，其特征在于，包括： S1、获取目标区域，所述目标区域包含至少两种结构图像和边缘位置，所述边缘位置为不同的结构图像之间的边界线，且所述边缘位置的至少一侧为周期性结构的图像，所述周期性结构包括若干重复排列的周期单元； S2、选定所述结构图像中的至少一种周期性结构图像为目标结构图像，并确定所述目标结构图像中的周期性结构呈周期性变化的方向； S3、在所述目标区域内沿着所述周期性变化的方向上，依次选取若干周期图像，所述周期图像包括所述目标结构图像中的至少一个周期单元； S4、在所述目标结构图像中选取第一对比图像，所述第一对比图像在沿所述周期性变化的方向上的长度大于所述周期图像在沿着所述周期性变化的方向上的长度； S5、对所述第一对比图像进行插值处理，以获取与所述周期图像相位和尺寸均一致的第二对比图像； S6、获取所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果； S7、根据所述归一化互相关结果获取所述边缘位置，包括：将满足预设条件的所述归一化互相关结果所对应在所述目标区域的位置即为所述边缘位置；当在所述目标区域内的相邻位置处所对应的所述归一化互相关结果由接近1骤降为远离1时，所述远离1的所述归一化互相关结果满足所述预设条件，所述接近1包括所述归一化互相关结果的取值为0.8~1，所述远离1包括所述归一化互相关结果的取值为0~0.3或0以下。

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