武汉帝尔激光科技股份有限公司肖俊峰获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉帝尔激光科技股份有限公司申请的专利一种转印基板及一种转印方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116080256B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111314183.0，技术领域涉及：B41F16/00；该发明授权一种转印基板及一种转印方法是由肖俊峰;朱胜鹏;李志刚;朱凡设计研发完成，并于2021-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种转印基板及一种转印方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种转印基板及一种转印方法。转印基板上设置单个或者多个沟槽，沟槽以图案形式排列，被配置成能够填充印刷浆料，在经激光束照射时印刷浆料从沟槽释放到接收基板上。本发明通过在转印基板的沟槽内设置释放层，释放层在激光束照射时至少部分气化，在印刷浆料和沟槽之间的间隙空间产生高于标准大气压强的局部空间压强；和或印刷浆料在激光束照射时至少部分气化，在印刷浆料和沟槽之间的间隙空间产生高于标准大气压强的局部空间压强。局部高压可构成激活释放填充的印刷浆料的驱动力，有助于得到更高高宽比的印刷栅线。
本发明授权一种转印基板及一种转印方法在权利要求书中公布了：1.一种转印基板，包括：设置在转印基板上的单个或者多个沟槽，所述沟槽以图案形式排列，并且被配置成能够填充印刷浆料，所述印刷浆料内含有有机释放成分，所述印刷浆料在激光束照射时至少部分气化，在所述印刷浆料和所述沟槽之间的间隙空间产生局部空间压强，所述局部空间压强大于1.05个标准大气压强； 所述沟槽的粗糙度为，Sa为0.02μm-2μm，Sz为小于4μm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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