福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司林剑涛获国家专利权
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龙图腾网获悉福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116243490B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310307616.2，技术领域涉及：G02B27/01；该发明授权一种显示装置是由林剑涛;刘耀;李宗祥;程浩;朱敬光;黄雅雯设计研发完成，并于2023-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种显示装置，用以简化显示装置光学系统的复杂度，减小显示装置的尺寸和体积。本申请实施例提供的一种显示装置，显示装置包括：导光元件，在导光元件厚度方向上嵌入导光元件的图像源组件，以及位于导光元件的出光面的第一超表面光栅；导光元件厚度方向与出光面交叉；图像源组件包括：显示器和第二超表面光栅；第二超表面光栅位于显示器的出光侧与导光元件的侧面之间；第二超表面光栅用于：使得显示器出射的光在导光元件内全反射传输；第一超表面光栅用于：使得从导光元件和第一超表面光栅之间的界面出射的光汇聚。
本发明授权一种显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：导光元件，在所述导光元件厚度方向上嵌入所述导光元件的图像源组件，以及位于所述导光元件的出光面的第一超表面光栅；所述导光元件厚度方向与所述出光面交叉； 所述图像源组件包括：显示器和第二超表面光栅；所述第二超表面光栅位于所述显示器的出光侧与所述导光元件的侧面之间；所述第二超表面光栅用于：使得所述显示器出射的光在所述导光元件内全反射传输； 所述第一超表面光栅用于：使得从所述导光元件和所述第一超表面光栅之间的界面出射的光汇聚； 所述第一超表面光栅和所述第二超表面光栅均包括超表面结构，所述第一超表面光栅以及所述第二超表面光栅均包括基底，位于所述基底一侧阵列排布的多个纳米柱，所述多个纳米柱在所述基底的正投影的图形至少包括两种，所述第一超表面光栅和所述第二超表面光栅的制作流程如下： 提供衬底并在衬底上利用电子束旋涂抗蚀剂，然后利用电子束光刻制作纳米柱阵列的图案，采用剥离技术剥离衬底，获得超表面光栅。
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