华为技术有限公司王佩瑶获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利一种光刻热点检测方法、装置、存储介质及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116324788B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080103715.3，技术领域涉及：G06F30/33；该发明授权一种光刻热点检测方法、装置、存储介质及设备是由王佩瑶;张锐;陈成设计研发完成，并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻热点检测方法、装置、存储介质及设备在说明书摘要公布了：一种光刻热点检测方法、装置、存储介质及设备，应用于半导体技术领域。该方法包括：首先获取待检测的光刻版图，并提取出表征其图案信息的典型图案特征，然后将该典型图案特征输入至预先构建的光刻热点检测模型包括卷积层、全连接层和输出层，得到光刻版图中的光刻热点。可见，由于该方法是通过将表征待检测的光刻版图图案信息的典型图案特征输入至预先构建的光刻热点检测模型进行检测，使得模型的检测过程充分考虑了光刻版图包含的典型图案特征即光刻版图中走线布局的几何特征，克服了现有的基于版图密度等特征进行检测时容易丢失光刻版图其他图案特征而导致检测结果不够准确的问题，进而能够有效提高检测结果的准确性。
本发明授权一种光刻热点检测方法、装置、存储介质及设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻热点检测方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待检测的光刻版图； 从所述光刻版图中，利用图像特征提取方法，提取所述光刻版图的典型图案特征，所述光刻版图的典型图案特征为所述光刻版图中走线布局的几何特征； 将所述典型图案特征输入至预先构建的光刻热点检测模型，得到所述光刻版图中的光刻热点；所述光刻热点检测模型包括卷积层、全连接层和输出层； 所述将所述典型图案特征输入至预先构建的光刻热点检测模型，得到所述光刻版图中的光刻热点，包括： 将所述典型图案特征与阵列向量输入至所述全连接层，得到全连接层的输出结果，所述阵列向量通过所述卷积层对所述光刻版图对应的版图阵列进行处理后得到； 将所述全连接层的输出结果输入至所述输出层，得到所述光刻版图中的光刻热点。
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