之江实验室;浙江大学匡翠方获国家专利权
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龙图腾网获悉之江实验室;浙江大学申请的专利激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116382043B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310399542.X,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备是由匡翠方;杨臻垚;詹兰馨;张良;樊吴申;汤孟博;关键;刘旭设计研发完成,并于2023-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备在说明书摘要公布了:本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台,所述方法包括:确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系;基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系;基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系,可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数,根据需要刻写的长度精确控制振镜电压,有效提高实际刻写长度的精确度,解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题,无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率,进而提高刻写成功率。
本发明授权激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备在权利要求书中公布了:1.一种激光直写系统刻写方法,其特征在于,所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台,所述方法包括: 确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系; 基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系; 基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写; 所述确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系包括: 控制所述振镜刻写第一刻点后,控制所述位移台移动所述第一距离,并控制所述振镜刻写第二刻点; 在图像传感模块坐标系中确定所述第一刻点的第一坐标所述第二刻点的第二坐标; 基于所述第一坐标和所述第二坐标确定所述第二距离,并确定所述第一距离与所述第二距离的比值为所述第一关系; 所述基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系包括: 基于所述预设系数确定预设电压,并基于所述预设电压控制所述振镜刻写第一预设长度的第一刻线; 确定所述第一刻线在所述图像传感模块坐标系中的第一线长,并基于所述第一线长和第一关系确定所述第一刻线的实际线长; 基于所述实际线长、预设系数和第一预设长度确定所述第二关系; 所述基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写包括: 确定X轴振镜方向与位移台坐标系横轴的第一夹角,其中,所述位移台坐标系和所述图像传感模块坐标系位于同一平面内; 基于所述第二关系和所述第一夹角对待刻写文件进行刻写。
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