湖南大学樊帆获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南大学申请的专利一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116400562B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310139800.0，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法是由樊帆;叶湘林设计研发完成，并于2023-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法，通过带有至少两层扭曲结构的正弦摆线型衍射波片作为偏振转换衍射波片来提高光学制备的精度，实现百纳米量级正弦摆线周期结构的光学压印。解决了基于偏振全息曝光系统制备正弦摆线型衍射波片速度慢、抗环境干扰能力差、进一步扩大曝光系统成本和难度高等限制批量生产的问题。
本发明授权一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光学制备各向异性光轴取向为空间正弦摆线型周期分布的衍射波片的方法，该方法包括： 1确定光源：使用的光源至少是部分相干并且是线偏振光； 2确定光控取向材料：使用所述光源的波段在光控取向材料的吸收光谱内，并且光控取向材料的取向受所述光源的偏振态调控； 3确定偏振转换衍射波片：偏振转换衍射波片对所述光源的偏振态进行空间周期性调控，这种空间周期是局部的或者整体的，该空间周期是需要制备衍射波片的空间周期的两倍；所述偏振转换衍射波片包含至少两层具有扭曲角度或者无扭曲角度的衍射波片，所述偏振转换衍射波片对所述光源的衍射效率高于95%； 4确定曝光区域：所述光源发出的光场通过所述偏振转换衍射波片，对有所述光控取向材料的区域曝光，曝光区域的偏振态调控来自于所述光源偏振态受到所述偏振转换衍射波片的空间性调控。
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