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龙图腾网获悉SLM方案集团股份公司申请的专利用于生产三维工件的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116419809B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180075314.6，技术领域涉及：B22F10/28；该发明授权用于生产三维工件的设备是由维拉·盖泽尔;丹尼尔·布吕克;乔纳斯·普雷尔;卡斯顿·纽曼设计研发完成，并于2021-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于生产三维工件的设备在说明书摘要公布了：用于通过用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照来生产三维工件46的设备10包括容纳载体12和粉末施加装置14的加工室16，该粉末施加装置用于将原料粉末的层施加到该载体12上。设备10还包括辐照单元26，该辐照单元用于根据待生产的工件18的对应层的几何形状来用电磁辐射或粒子辐射对该原料粉末的层进行选择性地辐照。适于吸收在用电磁辐射或粒子辐射对该原料粉末的层进行选择性地辐照时发射的热辐射的吸收装置50在如下位置被设置在该加工室16和或该辐照单元26中，该位置使得吸收装置能够吸收发生在该加工室16的内部和或该辐照单元26的内部的辐射。

本发明授权用于生产三维工件的设备在权利要求书中公布了：1.用于通过用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照来生产三维工件46的设备10，所述设备10包括： 加工室16，所述加工室容纳载体12和粉末施加装置14，所述粉末施加装置用于将原料粉末的层施加到所述载体12上；以及 辐照单元26，所述辐照单元用于根据待生产的三维工件的对应层的几何形状来用电磁辐射或粒子辐射对所述原料粉末的层进行选择性地辐照， 其中，适于吸收辐射的吸收装置50在如下位置被设置在所述加工室16和或所述辐照单元26中，该位置使得所述吸收装置能够吸收发生在所述加工室16的内部和或所述辐照单元26的内部的辐射，并且 其中，所述吸收装置50包括从所述吸收装置50的吸收表面54和或所述吸收装置50的与所述吸收装置50的吸收表面54相对布置的表面延伸的散热片56；和或 其中，所述吸收装置50包括至少一个第一回火通道62，所述至少一个第一回火通道延伸穿过所述吸收装置50的主体和或延伸为与所述吸收装置50的与所述吸收装置50的吸收表面54相对布置的表面相邻并热接触。

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