中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所尹立航获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请的专利光刻载片托盘及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116482941B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310448675.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻载片托盘及其制作方法是由尹立航;吕伟明;翟豪;华秀竹;祝伟;王逸群;曾中明设计研发完成，并于2023-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻载片托盘及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻载片托盘以及其制作方法，光刻载片托盘包括托盘本体以及具有弹性形变的限位件；托盘本体上设置有容纳载片的容置槽；限位件设置于所述托盘本体上且部分延伸至所述容置槽内，所述限位件能提供垂直于所述容置槽深度方向上或者沿所述容置槽深度方向上的抵持力，以对所述容置槽内的载片进行限位。本发明的光刻载片托盘能够对放置于其上的样品实现准确限位，以实现小尺寸样品的高精度、对准光刻工艺，同时提高现有光刻机对样品尺寸的兼容性。
本发明授权光刻载片托盘及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻载片托盘，其特征在于，包括： 托盘本体，其上设置有容纳载片的容置槽； 具有弹性形变的限位件，设置于所述托盘本体上且部分延伸至所述容置槽内，所述限位件能提供垂直于所述容置槽深度方向上或者沿所述容置槽深度方向上的抵持力，以对所述容置槽内的载片进行限位； 其中，在从所述容置槽的槽底到槽口的方向上，所述容置槽的侧壁沿靠近所述容置槽的槽心方向倾斜设置；所述限位件通过刻蚀所述托盘本体形成，所述限位件具有一限位面，当所述载片被置于所述容置槽内时，所述限位面与所述载片边缘相抵持，在从所述容置槽的槽底到槽口的方向上，所述限位面沿靠近所述容置槽的槽心方向倾斜设置。
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