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龙图腾网获悉宁波特粒科技有限公司申请的专利中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117263190B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210773132.2，技术领域涉及：C01B33/14；该发明授权中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品是由赵永亮;朱晓敏设计研发完成，并于2022-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品在说明书摘要公布了：本发明涉及中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品。本发明的中空二氧化硅溶胶含有中空二氧化硅粒子和分散介质，前述中空二氧化硅粒子通过29Si核磁共振谱法测得的与峰值相对应的化学位移在‑78～‑88ppm的共振峰面积Q1、化学位移在‑88～‑98ppm的共振峰面积Q2、化学位移在‑98～‑108ppm的共振峰面积Q3、以及化学位移在‑108～‑117ppm出现的共振峰面积Q4满足：Q1Q1+Q2+Q3+Q4实质上为0、Q2Q1+Q2+Q3+Q4为0.01～0.2、Q3Q1+Q2+Q3+Q4为0.01～0.6、以及，Q4Q1+Q2+Q3+Q4为0.2～0.98，分散介质为水、有机溶剂或者两者的组合。本发明的中空二氧化硅溶胶的粘度低，稳定性好，在基材上形成涂层的情况下硬度高、耐磨性好、与基材的附着力提高。

本发明授权中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品在权利要求书中公布了：1.一种中空二氧化硅溶胶，其特征在于：含有中空二氧化硅粒子和分散介质， 所述中空二氧化硅粒子通过29Si核磁共振谱法测得的与峰值相对应的化学位移在-78~-88ppm的共振峰面积Q1、化学位移在-88~-98ppm的共振峰面积Q2、化学位移在-98~-108ppm的共振峰面积Q3、以及化学位移在-108~-117ppm出现的共振峰面积Q4满足： Q1Q1+Q2+Q3+Q4实质上为0、 Q2Q1+Q2+Q3+Q4为0.01~0.2、 Q3Q1+Q2+Q3+Q4为0.01~0.6、以及， Q4Q1+Q2+Q3+Q4为0.2~0.98， 所述分散介质为水、有机溶剂或者两者的组合， 所述中空二氧化硅粒子的壳层的厚度为3~100nm，所述壳层上的孔的孔径分布为0.5~4纳米范围。

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