清华大学深圳国际研究生院丘陵获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学深圳国际研究生院申请的专利二维氮化硼全陶瓷膜、其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117800738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311833483.9，技术领域涉及：C04B35/583；该发明授权二维氮化硼全陶瓷膜、其制备方法和应用是由丘陵;成会明;丁斯远;刘闽苏设计研发完成，并于2023-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本二维氮化硼全陶瓷膜、其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本申请提供了一种二维氮化硼全陶瓷膜、其制备方法和应用，制备方法包括：提供二维氮化硼分散液，二维氮化硼分散液包括二维氮化硼纳米片和溶剂；采用湿法成型技术加工二维氮化硼分散液获得第一膜；对第一膜施加压力，以得到第二膜；对第二膜施加焦耳热烧结，烧结温度为1500℃～2500℃，烧结时间为10～3000s，得到二维氮化硼全陶瓷膜。本申请提供的二维氮化硼全陶瓷膜包括若干层叠排列的二维氮化硼纳米片，相邻的二维氮化硼纳米片直接连接且通过烧结键合连接，本申请提供的薄膜省去了现有技术中引入的高分子材料，使得本申请中二维氮化硼全陶瓷膜具有优异的导热系数。
本发明授权二维氮化硼全陶瓷膜、其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种二维氮化硼全陶瓷膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 提供二维氮化硼分散液，所述二维氮化硼分散液包括二维氮化硼纳米片和溶剂； 采用湿法成型技术加工所述二维氮化硼分散液，获得第一膜； 对所述第一膜施加压力，以得到第二膜； 对所述第二膜施加焦耳热烧结，以100~10000℃min的升温速率对所述第二膜进行烧结，烧结温度为1500℃~2500℃，烧结时间为10~150s，以100~10000℃min的降温速率降温，得到所述二维氮化硼全陶瓷膜。
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