上海工程技术大学梁硕获国家专利权
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龙图腾网获悉上海工程技术大学申请的专利一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118324523B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410430017.4,技术领域涉及:C04B35/495;该发明授权一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料及其制备方法是由梁硕;刘宏波设计研发完成,并于2024-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料、其用途及其制备方法,未充满型钨青铜结构低损耗介电材料,结构通式为aNb2O5‑bCaO‑cSrO‑dBaO‑eLa2O3‑fNd2O3‑gNa2O,其中,a≥0.5,b≥0.1,c≥0.1,d≥0.1,e≥0,f≥0,g≥0。本发明未充满型钨青铜结构低损耗介电材料,具有介电常数可调、低介电损耗、容温变化率小,可用于陶瓷电容器和MLCC;制备时,在中低温烧结即可,环境友好且工艺简单,成本低廉,具有良好的产业化前景。
本发明授权一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种未充满型钨青铜结构低损耗介电材料,其特征在于:其结构通式为aNb2O5-bCaO-cSrO-dBaO-eLa2O3-fNd2O3-gNa2O,其中,a=0.5,b=0.125,c=0.125,d=0.125,e=0.0625,f=0,g=0;或者,a=0.5,b=0.125,c=0.125,d=0.125,e=0,f=0.0625,g=0;或者,a=0.5,b=0.1,c=0.1,d=0.1,e=0.05,f=0,g=0.05;或者,a=0.5,b=0.1,c=0.1,d=0.1,e=0,f=0.05,g=0.05。
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