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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利OPC模型构建方法及装置、计算机可读存储介质和终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119439602B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411415442.2，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权OPC模型构建方法及装置、计算机可读存储介质和终端是由张聪;陈咏翔;曾鼎程;范富杰;胡展源设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本OPC模型构建方法及装置、计算机可读存储介质和终端在说明书摘要公布了：本发明公开了一种OPC模型构建方法及装置、存储介质和终端，其中方法包括对测试掩模进行光学曝光模拟以获取初步模拟数据，基于第一筛选条件对初步模拟数据中单元图案进行筛选获取初步单元图案信息；获取基于初步单元图案信息所建立的初步机台量测程式，基于初步机台量测程式收集待测晶圆的初步实际晶圆CD数据，基于预设建模条件对初步实际晶圆CD进行判断建立初始OPC模型；基于初始OPC模型对测试掩模进行模拟获取再次模拟数据，基于第二筛选条件对再次模拟数据中单元图案进行筛选以获取再次单元图案信息；基于再次单元图案信息获取最终OPC模型。采用智能量测方式在对现有人工参与量测方式进行优化的同时，提高了量测效率并减少人为因素产生的误差。

本发明授权OPC模型构建方法及装置、计算机可读存储介质和终端在权利要求书中公布了：1.一种OPC模型构建方法，包括： 基于预设光源曝光条件对测试掩模进行光学曝光模拟以获取初步模拟数据，基于第一筛选条件对所述初步模拟数据中单元图案进行筛选以获取初步单元图案信息，所述预设光源曝光条件包括拟定光源及能量和焦距变化矩阵； 获取基于所述初步单元图案信息所建立的初步机台量测程式，并基于所述初步机台量测程式在量测机台上收集待测晶圆在所述预设光源曝光条件下的初步实际晶圆CD数据，判断所述初步实际晶圆CD是否符合预设建模条件，若是则基于当前所述初步实际晶圆CD数据建立初始OPC模型，并将当前所述预设光源曝光条件中的拟定光源作为目标光源，将当前所述预设光源曝光条件中的能量和焦距变化矩阵中最佳焦距和最佳能量作为目标曝光条件，否则对当前所述预设光源曝光条件进行调整以获取新的预设光源曝光条件，并重新基于新的预设光源曝光条件对测试掩模进行光学曝光模拟； 在所述目标光源及所述目标曝光条件下，基于所述初始OPC模型对所述测试掩模进行光学曝光模拟以获取再次模拟数据，基于第二筛选条件对所述再次模拟数据中单元图案进行筛选以获取再次单元图案信息； 获取基于所述再次单元图案信息所建立的再次机台量测程式，基于所述再次机台量测程式在量测机台上收集待测晶圆在所述目标光源及所述目标曝光条件下的再次实际晶圆CD数据，基于所述再次实际晶圆CD数据建立最终OPC模型； 其中，所述待测晶圆为采用所述测试掩模曝光后所对应的任意一个晶圆。

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