启元实验室牛秉慧获国家专利权
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龙图腾网获悉启元实验室申请的专利一种可重构超表面器件及其制备方法与相位补偿方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119758491B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411958106.2,技术领域涉及:G02B1/00;该发明授权一种可重构超表面器件及其制备方法与相位补偿方法是由牛秉慧;董星辰;范静涛设计研发完成,并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可重构超表面器件及其制备方法与相位补偿方法在说明书摘要公布了:本申请公开一种可重构超表面器件及其制备方法与相位补偿方法,该可重构超表面器件包括:衬底层,以及分别位于衬底层两侧的超表面结构层和相位补偿层;其中,相位补偿层用于对超表面结构层进行相位补偿。本申请的可重构超表面器件相位补偿方法可在不改变超表面结构的纳米柱阵列以及制备工艺的情况下,实现对超表面结构的相位补偿。
本发明授权一种可重构超表面器件及其制备方法与相位补偿方法在权利要求书中公布了:1.一种可重构超表面器件,其特征在于,包括:衬底层,以及分别位于所述衬底层两侧的超表面结构层和相位补偿层; 其中,所述相位补偿层用于对所述超表面结构层进行相位补偿; 所述相位补偿层由相变材料制成; 所述相位补偿层为一层或多层; 所述衬底层依次包括第一衬底层、衬底间隔层和第二衬底层; 其中,所述超表面结构层位于所述第一衬底层的表面,所述相位补偿层位于所述第二衬底层的表面; 所述衬底间隔层为空气; 其中,相位补偿层,能够在被外界环境的激励下,折射率发生变化,以补偿由于加工纳米柱阵列造成的相位分布误差。
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