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龙图腾网获悉华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119901686B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411993944.3，技术领域涉及：G01N21/17；该发明授权一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统是由谷洪刚;陈晗祺;刘力;刘世元;马骏设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统在说明书摘要公布了：本申请属于相干衍射成像领域，具体公开了一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统。通过本申请，依据亚梯度投影的凸问题优化理论，在叠层衍射成像重构模型中，进一步地引入空间变化梯度加权函数来自适应地调节更新步长，提升迭代收敛速度。该方法可以在不引入任何额外的计算开销下，通过惩罚或抑制更新过程中的极值步长，实现支持域内的收敛速度均衡提升。此外，该方法无需任何硬件修改，可以与叠层衍射成像模型直接兼容，同时降低了重构过程中迭代算法的参数灵敏度，无需精细调参即可实现鲁棒地收敛。

本发明授权一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法，其特征在于，包括： S1.获取各扫描位置实际测量的光场强度信息； S2.初始化探针和待测样品； S3.通过探针与待测样品相乘，来模拟各扫描位置的待测样品与探针相互作用后形成的出射光； S4.通过相应的传播模型，对出射光传播到探测器平面的过程进行模拟，以此获得在样品平面中各扫描位置的模拟衍射光场； S5.将各扫描位置的模拟衍射光场的幅值替换为实际测量的光场强度信息，保持相位信息不变，得到各扫描位置的更新模拟衍射光场； S6.将更新模拟衍射光场，通过逆向传播模型，获得在样品平面中各扫描位置的更新出射光； S7.根据S3及S6中更新前后的出射光，同时更新各扫描位置的待测样品及探针，更新的步长根据空间变化梯度加权函数适应调节； S8.对所有扫描位置，重复步骤S3至S7，直至满足迭代停止条件，输出重构的探针与样品的复振幅信息； 步骤S7中，所述同时更新各扫描位置的待测样品及探针，具体如下： 其中，与分别表示在第个扫描位置上更新前后的待测样品，与分别表示更新前后的探针，r表示实空间的坐标，、分别表示样品和探针的迭代搜索步长参数，表示更新后与更新前的出射光的复振幅差值；表示矩阵Frobenius范数的平方，表示在运算结果小于0时取0，大于等于0时取运算结果本身，与分别表示样品和探针的调谐参数，代表关于收敛的调谐参数；表示复矩阵的共轭矩阵。

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