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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121104888B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511554478.3，技术领域涉及：B24B37/26；该发明授权用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺是由李加海;杨惠明;孙传东设计研发完成，并于2025-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及CMP抛光技术领域，且公开了用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺，包括聚氨酯基粗抛底层，所述聚氨酯基粗抛底层的表面开设有抛光凹槽，所述抛光凹槽呈现十字压褶成型，所述聚氨酯基粗抛底层的底端一侧连接有输水层，所述输水层的表面开设有输水孔，所述输水孔的中间位置设置有螺旋导流纹，所述输水层的底端连接有内衬层，所述内衬层的外边缘设置有边缘护圈，所述内衬层设置在边缘护圈的内侧，所述内衬层的顶端连接有定位柱。该用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺，通过抛光液可从中心向边缘定向高效输送，既能快速带走中心区域的摩擦生热，实现抛光液在硅片表面的均匀分布，解决了现有白垫因温度不均导致的抛光缺陷。

本发明授权用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺在权利要求书中公布了：1.用于硅片表面平整度粗抛的白垫，其特征在于，包括聚氨酯基粗抛底层，所述聚氨酯基粗抛底层的表面开设有抛光凹槽，所述抛光凹槽呈现十字压褶成型，所述聚氨酯基粗抛底层的底端一侧连接有输水层，所述输水层的表面开设有输水孔，所述输水孔的中间位置设置有螺旋导流纹，所述输水层的底端连接有内衬层，所述内衬层的外边缘设置有边缘护圈，所述内衬层设置在边缘护圈的内侧，所述内衬层的顶端连接有定位柱，所述内衬层的上表面设置有衔接层，所述衔接层的外侧设置有支撑肋，所述支撑肋设置有多组，多组支撑肋之间设置有编织导流层，所述内衬层的底端连接有聚氨酯基粗抛顶层，所述输水层、衔接层和内衬层包裹在抛光凹槽和聚氨酯基粗抛顶层之间；所述编织导流层之间横向编织有横向编织线，所述横向编织线编织的密度随着半径越大，编织的越紧密，越靠近衔接层横向编织线的编织密度越小；所述编织导流层设置在支撑肋之间，越靠近支撑肋的编织导流层编织的紧密度越低，越靠近编织导流层的中间位置编织的密度越高，所述编织导流层两侧缝隙大，越靠近编织导流层中间位置缝隙越小。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安徽禾臣新材料有限公司，其通讯地址为：238200 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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