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龙图腾网获悉中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121348484B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511935564.9，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片是由于天燕;李金榜;李大琪;薛志国;王保勇;秦杨;蒋林;段微波设计研发完成，并于2025-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片，属于光学薄膜技术领域，该分色片在熔石英基底正面镀制多功能分光膜，背面镀制无热应力补偿减反射膜。正面膜系采用TiO2和SiO2作为高低折射率材料，设计基于后截止滤光片叠加多层能量调控结构的主膜系，实现对1550±10nm激光的高效反射；并通过匹配非对称等效层消除半波孔，确保750‑900nm波段实现中性分光。背面膜系由Ta2O5和SiO2构成，既高效消除剩余反射鬼像，又补偿正面膜层引起的面型畸变。本发明激光干涉收发分色片光谱稳定性好，能够耐受直接暴露在地球静止轨道的恶劣环境，同时也可以用于其它激光测距相机的光谱与能量调控。

本发明授权一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片在权利要求书中公布了：1.一种具有良好空间环境耐受性的高效激光干涉收发分色片，其特征在于，包括： 分色片基底1； 位于所述分色片基底1一个表面的多功能调控分色膜层2，所述多功能调控分色膜层2由低折射率材料SiO2和高折射率材料TiO2交替沉积构成，其膜系结构为后截止滤光膜系叠加多层能量调控结构，并匹配非对称等效层以消除半波孔，实现：在1550±10nm波段反射率≥95%，在750~900nm波段透射率、反射率分别为T=48.3%和R=51.7%； 位于所述分色片基底1另一表面的应力补偿调控膜层3，由厚度为1000~1500nm的SiO2膜层构成；所述应力补偿调控膜层3的厚度通过多功能调控分色膜层2的残余应力与高效宽光谱减反射膜4的残余应力之差，经软件仿真优化确定； 位于所述应力补偿调控膜层3之上的高效宽光谱减反射膜4，由低折射率材料SiO2和高折射率材料Ta2O5交替沉积构成； 所述分色片能够耐受地球静止轨道的空间环境； 所述多功能调控分色膜层2的膜系结构为： n00.5337L1.0049H1.3707L1.1657H1.1009L1.3136H1.4139L0.8466H0.7679L0.1523H0.7890L0.8052H1.6046L1.0786Hs5.4087L0.1203N0.3005L0.4535N0.2217L0.3180N1.8437L0.2036N0.2236L0.9481N0.6404Ln0； N、H、L分别为Ta2O5、TiO2和SiO2，ns为基底，n0为空气，中心波长为1400nm。

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