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龙图腾网获悉山东永聚医药科技股份有限公司申请的专利可降解高阻隔膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121403812B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511983599.X，技术领域涉及：B32B33/00；该发明授权可降解高阻隔膜及其制备方法是由边超;武雪朋;刘冲;王鑫宁;宋家绪;孙文静;王建磊设计研发完成，并于2025-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本可降解高阻隔膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了可降解高阻隔膜及其制备方法，涉及阻隔膜技术领域。本发明先经三层共挤出吹塑成型工艺制得可降解膜层，再通过电子束真空蒸镀氧化硅及涂布保护层，制备得到可降解高阻隔膜，其水蒸气透过率＜0.5gm2·day、氧气透过率＜0.5cm3m2·day·0.1MPa，具有较高的阻隔性能，且可降解性好，能够满足食品、医疗等行业包装材料的要求。

本发明授权可降解高阻隔膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.可降解高阻隔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1制备可降解膜层：通过三层共挤出及吹塑成型，制得可降解膜层；其中，可降解膜层的外层由90~95%PBAT、2~5%助剂和2~6%壳聚糖组成；中层由88~93%PBAT、2~6%助剂和2~6%壳聚糖组成；内层由60~80%PLA和20~40%PBAT组成； S2电子束真空蒸镀氧化硅： S2.1将可降解膜层安装到真空电子束镀膜机的放卷辊； S2.2关闭真空室，抽真空，启动镀膜冷却钢辊和收卷放卷的伺服电机； S2.3可降解膜层转动经过导辊导引后，启动氩离子风清洗、活化； S2.4使用氧气进行活化； S2.5将硅烷偶联剂喷涂至可降解膜层表面； S2.6可降解膜层经导辊导引，进入蒸镀钢辊，蒸镀钢辊的温度为40~60℃，进一步活化可降解膜层； S2.7使用电子束轰击氧化硅靶材，氧化硅蒸发升华沉积镀膜，形成氧化硅蒸镀阻隔层； S2.8通入氮气，采用等离子体对氧化硅蒸镀阻隔层进行轰击； S2.9收卷、释放真空，卸卷包装； S3涂布保护层：采用微凹版涂布方式在氧化硅蒸镀阻隔层表面涂布保护层，涂布量为3~5gm2，涂布厚度为1~2μm，经固化成型后，即得可降解高阻隔膜；保护层由以下质量百分比的组分组成：3~20%聚氨酯、1~2%乙醇、0.5~1%水性成膜剂，其余为去离子水。

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