魔视智能科技(上海)股份有限公司丁洋获国家专利权
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龙图腾网获悉魔视智能科技(上海)股份有限公司申请的专利一种基于双圆标志的外参标定方法、装置及设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121414857B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511986073.7,技术领域涉及:G06T7/80;该发明授权一种基于双圆标志的外参标定方法、装置及设备是由丁洋;张如高;虞正华设计研发完成,并于2025-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于双圆标志的外参标定方法、装置及设备在说明书摘要公布了:本公开涉及环境感知技术领域,提出了一种基于双圆标志的外参标定方法、装置及设备,其中,该方法包括:根据相机拍摄图像,拟合双椭圆初始曲线;利用一致性约束条件,得到双椭圆优化曲线,并根据双椭圆优化曲线,确定包含切点和圆心投影像的二维特征点;获取两个目标圆形标志的标志特征点;基于二维特征点和标志特征点,确定相机之间的外参;将标志特征点变换至激光雷达坐标系下,得到符合内在一致性的三维特征点;基于二维特征点和三维特征点,确定相机与激光雷达之间的外参;基于三维特征点,确定各个激光雷达之间的外参。本公开一个或者多个实施方式提供的技术方案,能够高精度实现相机之间及相机与激光雷达之间的外参标定。
本发明授权一种基于双圆标志的外参标定方法、装置及设备在权利要求书中公布了:1.一种基于双圆标志的外参标定方法,其特征在于,所述方法用于多个目标传感器之间的外参标定,所述目标传感器包括目标相机和目标激光雷达,所述方法包括: 获取目标双圆标定板的相机拍摄图像,并根据所述相机拍摄图像,拟合双椭圆初始曲线,所述目标双圆标定板包含图案相同的两个目标圆形标志; 根据所述双椭圆初始曲线,利用目标特征提取算法,确定所述双椭圆初始曲线的初始公切线、初始切点、由相互平行的初始公切线构成的初始消失点、由不同初始消失点构成的初始消失线,以及所述目标圆形标志的初始圆心投影像; 利用基于初始消失点和初始消失线构建的一致性约束条件,优化所述双椭圆初始曲线,得到双椭圆优化曲线,并根据所述双椭圆优化曲线,利用所述目标特征提取算法,确定二维特征点,所述二维特征点包括优化切点和优化圆心投影像; 获取两个所述目标圆形标志的标志特征点,所述标志特征点包括标志圆心和标志切点; 基于所述二维特征点和所述标志特征点,确定各个所述目标相机之间的外参; 根据两个所述目标圆形标志的点云边缘检测结果,优化所述目标双圆标定板在激光雷达坐标系下的初始位姿,并根据所述初始位姿的优化结果,将所述标志特征点变换至激光雷达坐标系下,得到符合内在一致性的三维特征点; 基于所述二维特征点和所述三维特征点,确定所述目标相机与所述目标激光雷达之间的外参; 基于所述三维特征点,确定各个所述目标激光雷达之间的外参。
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