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龙图腾网获悉大连科利德光电子材料有限公司申请的专利一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121494267B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610038045.0，技术领域涉及：C02F9/00；该发明授权一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺及应用是由刘颖;王俞童;冯凯;石琳;刘新辉;王金菊设计研发完成，并于2026-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺及应用，属于特种气体行业工业废气处理及稀散金属回收技术领域。工艺包括：将双氧水尾气吸收液静置分离，沉降层通过pH与复合絮凝剂协同调节，实现二氧化锗高效沉降；二氧化锗浓缩相脱水形成滤饼，再经三级逆流洗涤、阶段性升温干燥，得到粗品二氧化锗固体；对滤液和沉降后的上清液，采用一级pH调节、二级膜分离吸附、三级闭环补加双氧水三级净化系统，实现双氧水高效循环利用；使二氧化锗回收率达99%以上，双氧水回收利用率达95%，工艺成本降低40%以上，具有工艺简洁、资源回收率高、运行成本低的优势，适用于半导体、光伏材料及特种气体生产中含锗尾气的处理与资源化利用。

本发明授权一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺及应用在权利要求书中公布了：1.一种基于双氧水尾气吸收液中二氧化锗高效沉降与循环回收工艺，其特征在于，包括以下步骤： S1：将喷淋塔内尾气吸收液通入沉降槽内静置，将顶部上清液通入上清液溢流槽中，将底部沉降层通入沉降区； S2：沉降内区的沉降层用硝酸调节pH后，再添加复合絮凝剂，搅拌、静置，得到二氧化锗浓缩泥浆，二氧化锗浓缩泥浆经过滤分别得到滤饼和滤液； S3：将S2中的滤饼，经三级逆流洗涤工序，去除滤饼上残留的双氧水和可溶盐，洗涤水为去离子水； S4：将S3洗涤后的滤饼进行阶段升温干燥，得到粗品固体二氧化锗； S5：将S1得到的上清液和S2得到的滤液合并为混合液，用硝酸调节混合液pH，加入双氧水稳定剂后，吸附去除混合液中的锗和Fe2+Cu2+金属离子； S6：将S5中混合液经吸附处理后所得的液体，经超滤操作截留所述液体中的胶体锗以及除胶体锗以外的悬浮物，所得净化液体进入吸收液循环槽内； S7：监测吸收液循环槽中的双氧水的浓度，根据监测到的浓度补加双氧水，直至循环槽中的双氧水的浓度达到设定值后，再将其通入尾气系统中的喷淋塔内，进行循环再利用。

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