东华理工大学南昌校区章艳红获国家专利权
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龙图腾网获悉东华理工大学南昌校区申请的专利基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121499437B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202610037720.8,技术领域涉及:G01N21/59;该发明授权基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法是由章艳红;韦柏乐;韦春妙设计研发完成,并于2026-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法在说明书摘要公布了:本申请提供一种基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法,包括:建立包含均匀背光照明系统、二维裂隙装置及高精度CCD相机的光透法检测系统,构建适用于裂隙的LIS模型库,通过光透法检测系统获取二维裂隙装置充满水以及注入目标流体时的光强值矩阵,分别作为背景光强和过程光强;根据两相流体系类型选取对应LIS模型并输入背景光强和过程光强,反演得到两相流体系裂隙内各空间位置在对应时刻的流体绝对饱和度,基于饱和度结果,结合二维裂隙装置的几何参数,求得指定流体相在裂隙内的总体积。通过将光透法检测系统与适用于裂隙的LIS模型相结合,解决了裂隙中流体相的饱和度和体积的准确求解问题。
本发明授权基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法在权利要求书中公布了:1.基于光透法与LIS模型的裂隙两相流饱和度测量方法,其特征在于,将裂隙介质概化为孔隙数量为1的孔隙介质,并基于所述概化执行以下步骤: S1、建立包含均匀背光照明系统、二维裂隙装置及高精度CCD相机的光透法检测系统;其中,所述均匀背光照明系统用于提供均匀稳定的面光源;所述二维裂隙装置设置于所述均匀背光照明系统的光路中,用于模拟裂隙介质并提供流体运移通道;所述高精度CCD相机设置于所述二维裂隙装置的相对侧,用于接收透过二维裂隙装置的光信号并转换为数字图像信号; S2、基于所述概化,构建适用于裂隙的LIS模型库;其中,所述适用于裂隙的LIS模型库包含应用于水气两相体系的WG-A模型、WG-B模型;应用于NAPL水两相体系的NW-A、NW-B模型;应用于染色水气两相体系的MWG-A修正模型、MWG-B修正模型; S3、通过所述光透法检测系统获取二维裂隙装置在充满水相时的光强值矩阵,记为背景光强,符号为Iw; S4、向充满水相的二维裂隙装置中注入待测目标流体,通过所述光透法检测系统获取对应时刻的光强值矩阵,记为过程光强,符号为I; S5、根据两相流体系类型,选取两相流体系对应的LIS模型,将所述背景光强和所述过程光强输入所选LIS模型,计算得到两相流体系裂隙内各空间位置在对应时刻的流体绝对饱和度; S6、基于饱和度结果,结合二维裂隙装置的几何参数进行积分,求得指定流体相在裂隙内的总体积; 其中,指定流体相在裂隙内的总体积计算公式为;其中,X表示NAPL、气体流体相中的一种,表示非水相绝对饱和度,表示每个像素单位的面积,表示裂隙装置空间位置,上的宽度,即裂隙的真实隙宽,和分别表示整个裂隙装置横向和纵向上的像素数目。
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