浙江晶越半导体有限公司高冰获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江晶越半导体有限公司申请的专利一种化学机械抛光装置及高硬度半导体材料抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115847277B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211638015.1，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权一种化学机械抛光装置及高硬度半导体材料抛光方法是由高冰;吴鲁;周頔设计研发完成，并于2022-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光装置及高硬度半导体材料抛光方法在说明书摘要公布了：本发明涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种化学机械抛光装置及高硬度半导体材料抛光方法，所述装置包括抛光平台，其上表面设置有抛光盘，所述抛光平台的外侧围绕抛光盘外周部设置有围挡装置，使得围挡装置内部空间形成用于蓄积抛光液的蓄液空间，所述抛光平台上设置有用于对蓄液空间内部产生超声波的超声波发生器。本发明通过在化学机械抛光装置中引入超声波发生器，从而在化学机械抛光过程中提升了抛光液中磨料的活性，提升了其机械能，使得磨料对待抛光部件的磨削能力进一步提升。使得对于高硬度半导体材料的抛光效率大幅提升，大大缩短了加工时间。
本发明授权一种化学机械抛光装置及高硬度半导体材料抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光装置，其特征在于， 包括抛光平台100，其上表面设置有抛光盘110，所述抛光平台100的外侧围绕抛光盘110外周部设置有围挡装置120，使得围挡装置120内部空间形成用于蓄积抛光液的蓄液空间130，所述围挡装置120的侧壁处设置有用于流出抛光液的出液口121，所述出液口121其数量至少为2，其均匀分布于围挡装置120的侧壁处，所述抛光平台100上设置有用于对蓄液空间130内部产生超声波的超声波发生器140，所述超声波发生器140固定在蓄液空间130的中心处，并与抛光盘110的上表面紧密贴合，所述超声波发生器140对蓄积在蓄液空间130中的抛光液发射出超声波发射频率≥20KHz的超声波，从而将超声波中的能量转换成抛光液中磨料的机械能； 抛光头组件200，包括用于对待抛光工件起到固定作用的固定装置210以及用于对于抛光衬底施加压力并产生旋转的下压装置220； 抛光液输送装置300，其用于向蓄液空间130内输送抛光液。
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