周星工程股份有限公司金显昌获国家专利权
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龙图腾网获悉周星工程股份有限公司申请的专利使用气体分配单元的气体供应方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116075604B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180056456.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权使用气体分配单元的气体供应方法是由金显昌;金润晶;刘光洙;李龙炫;李真镐设计研发完成，并于2021-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用气体分配单元的气体供应方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种使用气体分配单元的气体供应方法，气体分配单元包括分别安装在多个气体供应通道上的多个气体流速控制设备，并配置为单独地控制通过各个气体供应通道供应的处理气体的流速，并且不同地调整通过各个气体供应通道供应的处理气体的气体供应时间和供应顺序，从而改善沉积薄膜在衬底的整个表面区域上的厚度均匀性。
本发明授权使用气体分配单元的气体供应方法在权利要求书中公布了：1.一种使用气体分配单元的气体供应方法，所述气体分配单元通过第一气体供应通道、第二气体供应通道、第三气体供应通道、第四气体供应通道和第五气体供应通道将处理气体供应到第一区域、第二区域、第三区域、第四区域和第五区域，所述第一区域对应于衬底处理设备中的气体扩散空间的中心区域，所述第二区域、第三区域、第四区域和第五区域对应于所述气体扩散空间的各边缘区域，所述第一至第五气体供应通道分别包括第一气体流速控制设备、第二气体流速控制设备、第三气体流速控制设备、第四气体流速控制设备和第五气体流速控制设备，所述气体供应方法包括： 第一供应步骤，通过所述第一气体供应通道将所述处理气体供应至所述第一区域、或分别通过所述第一至第五气体供应通道将所述处理气体供应至所述第一至第五区域；以及 第二供应步骤，分别通过所述第二至第五气体供应通道将所述处理气体供应至所述第二至第五区域， 其中，在所述第一供应步骤之后顺序地执行所述第二供应步骤， 其中，在对应于整个处理时间的40％至80％的时间期间执行所述第一供应步骤。
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