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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(上海)有限公司申请的专利图像矫正方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116416160B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310390514.1，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权图像矫正方法及装置是由于皓;鄢昌莲;毛礼;张荣佳;甘远;韩春营设计研发完成，并于2023-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本图像矫正方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种图像矫正方法及装置，该方法包括：将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐；基于设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对；基于关键点对，对SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像；基于设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量；在畸变量小于预设阈值的情况下，确定SEM图像矫正结束。由此，可以基于设计版图及SEM图像中的图像单元，确定关键点对，再基于该关键点对对SEM图像进行矫正，由于该待测样片的SEM图像中的图像单元与设计版图中的图像单元可以尽量保持一致，从而可使得SEM图像的矫正更为准确可靠，从而提高了SEM图像矫正的准确性和可靠性。

本发明授权图像矫正方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种图像矫正方法，其特征在于，包括： 将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐； 基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对； 基于所述关键点对，对所述SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像； 基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量； 在所述畸变量小于预设阈值的情况下，确定所述SEM图像矫正结束； 其中，所述基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对，包括： 在所述设计版图及SEM图像几何中心对齐的情况下，以所述几何中心为坐标原点O，建立直角坐标系O-XY； 在XY平面内，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元； 在所述设计版图上选取与所述第一图像单元对应位置的第二图像单元； 选取所述第一图像单元和所述第二图像单元中相同位置的其中一个坐标点为关键点对； 其中，所述在XY平面内，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元，包括： 在所述XY平面内的第一方向上，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元； 在所述XY平面内的第二方向上，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元。

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