武汉工程大学池晨获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉工程大学申请的专利一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116555738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310319742.X，技术领域涉及：C23C16/48；该发明授权一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法是由池晨设计研发完成，并于2023-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法，涉及新能源材料领域，通过步骤1，配制液态前驱体；步骤2，液态前驱体的加热和输送；步骤3，激光辅助化学气相沉积生成富锂铝酸盐陶瓷涂层；制备得到富锂铝酸盐陶瓷涂层。本发明通过对原料前躯体的预处理，增加激光和真空辅助沉积，制备出富锂铝酸盐陶瓷涂层单相Li5AlO4薄膜，且沉积速率达到6mmh，有利于规模化生产。
本发明授权一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法在权利要求书中公布了：1.一种富锂铝酸盐陶瓷涂层高速包覆的方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1，配制液态前驱体：按照摩尔比为3:1～10:1分别称取Li前驱体原料和Al前驱体原料，混合后在常温下研磨2～4min，研磨后加入相当于Li前驱体原料的物质的量的15～25倍的水，混合均匀得到液态前驱体； 步骤2，液态前驱体的加热和输送：将所述液态前驱体在673-873K下进行加热挥发，得到共析的Li和气化的Al前驱体原料，采用惰性气体作为载流气将得到的所述共析的Li和所述气化的Al前驱体原料输送至CVD腔体内的反应区域； 步骤3，激光辅助化学气相沉积生成富锂铝酸盐陶瓷涂层：通入O2到所述CVD腔体内的反应区域，再调节所述CVD腔体气压稳定至200～550Pa，所述CVD腔体气压稳定20～40s后采用激光的光束辐射所述CVD腔体内的反应区域的基板，激活所述共析的Li、所述气化的Al前驱体原料和O2发生化学气相沉积反应，在所述基板上得到富锂铝酸盐陶瓷涂层。
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