奥比中光科技集团股份有限公司姜兆祥获国家专利权
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龙图腾网获悉奥比中光科技集团股份有限公司申请的专利一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116626688B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310116424.3,技术领域涉及:G01S17/08;该发明授权一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法是由姜兆祥设计研发完成,并于2023-01-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法,包括:发射器,用于向目标场景交替发射泛光光束和斑点图案光束;接收器,用于接收目标反射回的泛光光束并生成第一电信号,以及接收被目标反射回的斑点图案光束并生成第二电信号;控制与处理器,用于处理第一电信号生成第一Rawphase图,处理第二电信号生成第二Rawphase图,并处理第一Rawphase图和第二Rawphase图以获得消除多路径干扰的稠密深度图。本申请中通过利用发射不同模式的探测光束,以定量的确定多路径误差引起的偏差量,并对多路径误差的偏差量进行消除以获得更为精准的稠密深度图像,提高ITOF测距系统的准确性。
本发明授权一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法在权利要求书中公布了:1.一种消除多路径误差的ITOF测距系统,其特征在于,包括: 发射器,用于向目标场景交替发射泛光光束和斑点图案光束; 接收器,用于接收目标反射回的所述泛光光束并生成第一电信号,以及接收被目标反射回的所述斑点图案光束并生成第二电信号; 控制与处理器,用于处理所述第一电信号生成第一Rawphase图,处理所述第二电信号生成第二Rawphase图,并处理第一Rawphase图和第二Rawphase图以获得消除多路径干扰的稠密深度图; 所述处理所述第一Rawphase图和第二Rawphase图获得消除多路径干扰的稠密深度图,包括: 所述控制与处理器根据所述第一Rawphase图和第二Rawphase图生成稀疏误差Rawphase图,对所述稀疏误差Rawphase图进行插值得到稠密误差Rawphase图,并利用所述稠密误差Rawphase图对所述第一Rawphase图进行校正以获得所述消除多路径干扰的稠密深度图;或, 所述控制与处理器处理所述第一Rawphase图和第二Rawphase图生成第一深度图和第二深度图;根据所述第一深度图和第二深度图获得稀疏误差深度图,对所述稀疏误差深度图进行插值得到稠密误差深度图,并利用所述稠密误差深度图对所述第一深度图进行校正以获得所述消除多路径干扰的稠密深度图。
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