中国科学院理化技术研究所符玉华获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院理化技术研究所申请的专利一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116637210B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310502741.9，技术领域涉及：A61K49/04；该发明授权一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用是由符玉华;孙承华;周树云;陈龙;张梅英设计研发完成，并于2023-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用，所述应用的方法包括：将荧光材料掺杂于成膜树脂中得到的膜用于X射线齿科成像器件的制备；其中，所述荧光材料为稀土元素掺杂的碱土金属卤化物。该方法得到的X射线齿科成像器件兼具好的图像分辨率、成像密度和使用准确性。
本发明授权一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用在权利要求书中公布了：1.一种荧光材料在X射线齿科成像器件的制备中的应用，其特征在于，所述应用的方法包括：将荧光材料掺杂于成膜树脂中得到的膜用于X射线齿科成像器件的制备； 其中，所述荧光材料为稀土元素掺杂的碱土金属卤化物； 所述荧光材料与成膜树脂的质量比为5.5-15:1； 所述成膜树脂选自聚乙烯醇缩丁醛； 所述稀土元素掺杂的碱土金属卤化物选自掺铕碘溴氟化钡； 所述应用包括如下步骤： 将荧光材料和成膜树脂互混后形成悬浊液，可选地加入助剂，得涂布液； 将涂布液施加在基底上，成膜。
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