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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117802480B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410093201.4，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置是由朱嘉琦;李坤;高岗;杨磊;段超设计研发完成，并于2024-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置在说明书摘要公布了：用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置，本发明是为了解决现有镀膜技术存在的曲面光学窗口内表面镀膜均匀性和稳定性不佳的问题。本发明原子层沉积装置中的气体通道件竖直固定在舱体底座上，在抽气板上表面的圆周方向上设置有围沿，围沿、凸沿以及盖板围成气腔，抽气板固定在气体通道件的上表面，在盖板的上表面固定设置有中空球壳，样品支架套设在气体通道件的外部，半球形样品放置在样品支架的环形平台上，舱体安装在舱体底座上，舱体套设在样品支架的外部，舱盖盖设在舱体的顶部，舱盖的下表面设置有半球形加热器。本发明通过设计原子层沉积装置的舱体结构，以实现对半球形曲面内表面的均匀镀膜，获得了更加均匀稳定的流场分布。

本发明授权用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置在权利要求书中公布了：1.用于半球形曲面内表面均匀镀膜的原子层沉积装置，其特征在于该原子层沉积装置包括舱盖1、半球形加热器2、中空半球壳3、盖板4、抽气板5、盘状加热器6、气体通道件7、筒状加热器8、样品支架9、舱体10和舱体底座11，在舱体底座11上开有第一进气口11-1和第一出气口11-2，气体通道件7为圆筒形，沿气体通道件7的轴向开有进气通路7-1和出气通路7-2，气体通道件7竖直固定在舱体底座11的上表面，气体通道件7中的进气通路7-1与第一进气口11-1相通，气体通道件7中的出气通路7-2与第一出气口11-2相通，在气体通道件7的外部套设有筒状加热器8； 所述的抽气板5为圆盘形，在抽气板5上表面的圆周方向上设置有围沿5-3，沿围沿5-3的径向开有多个气孔5-4，多个气孔5-4沿着抽气板5的圆周方向均匀分布，抽气板5上开有第二进气口5-1和第二出气口5-2，第二进气口5-1的圆周上设置有凸沿5-5，围沿5-3和凸沿5-5的上表面平齐；盖板4盖设在抽气板5上并固定，盖板4上开有第三进气口4-1，第三进气口4-1与第二进气口5-1相通，围沿5-3、凸沿5-5以及盖板4围成气腔； 抽气板5固定在气体通道件7的上表面，第二进气口5-1与气体通道件7中的进气通路7-1相通，第二出气口5-2与气体通道件7中的出气通路7-2相通，在抽气板5的下表面设置有盘状加热器6，在盖板4的上表面固定设置有中空半球壳3，中空半球壳3的中心处开有中心气孔3-1； 样品支架9安装在舱体底座11上，样品支架9套设在气体通道件7的外部，样品支架9的顶部带有环形平台9-1，半球形样品18放置在环形平台9-1上并罩设在中空半球壳3上方，半球形样品18与中空半球壳3之间留有通气间隙，样品支架9与盖板4和抽气板5之间也留有通气间隙； 舱体10安装在舱体底座11上，舱体10套设在样品支架9的外部，舱盖1盖设在舱体10的顶部，舱盖1的下表面设置有半球形加热器2，半球形加热器2罩设在半球形样品18的上部。

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