上海车仪田科技有限公司刘新阳获国家专利权
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龙图腾网获悉上海车仪田科技有限公司申请的专利半导体工艺参数的调整方法、系统、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121675075B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610172195.0，技术领域涉及：G06F30/27；该发明授权半导体工艺参数的调整方法、系统、设备及存储介质是由刘新阳;张黎明设计研发完成，并于2026-02-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺参数的调整方法、系统、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供了一种半导体工艺参数的调整方法、系统、设备及存储介质，涉及半导体检测技术领域，本申请基于当前工艺周期的原始反射光谱和工艺参数，从预设函数库获取搜索参数的参考阈值，减少了固定阈值依赖，提升了复杂光谱条件下的检测稳定性。基于历史反射光谱和其对应的工艺参数，采用预设的预测模型生成当前检测周期的特征波长范围，使搜索范围随工艺漂移动态更新，提高了定位效率和抗干扰能力。基于参考阈值和特征波长范围在原始反射光谱上执行特征搜索并输出融合特征波长，实现更高精度的关键波长提取，为工艺决策提供可靠依据。仅在有效性判断满足预设条件时将融合特征波长反馈至主控系统并用于下一工艺周期调参，形成可靠闭环控制。
本发明授权半导体工艺参数的调整方法、系统、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺参数的调整方法，其特征在于，所述方法包括: 获取当前工艺周期的原始反射光谱和工艺参数；其中，所述原始反射光谱是基于半导体外延生长过程中产生的反射光信号生成的； 在当前工艺周期的每个检测周期，逐帧解析所述原始反射光谱，根据解析结果和工艺参数，从预设函数库中查询得到搜索参数的参考阈值； 基于历史反射光谱和其对应的工艺参数，采用预设的预测模型生成当前检测周期的特征波长范围； 基于所述特征波长范围，在所述参考阈值的约束下，在所述原始反射光谱上执行特征搜索，得到融合特征波长； 根据所述原始反射光谱和所述融合特征波长进行有效性判断，并在判断结果满足预设条件时将所述融合特征波长发送至外延生长设备的主控系统，以使所述主控系统基于所述融合特征波长调整下一个工艺周期的工艺参数。
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