Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 苏州工业园区雨竹半导体有限公司刘峰获国家专利权

苏州工业园区雨竹半导体有限公司刘峰获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉苏州工业园区雨竹半导体有限公司申请的专利提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224111599U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202521024341.2,技术领域涉及:H10P72/00;该实用新型提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构是由刘峰;吴铭钦设计研发完成,并于2025-05-23向国家知识产权局提交的专利申请。

提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及刻蚀机技术领域,公开了提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构,包括腔体和气体入口,所述腔体上内壁中心处设有屏蔽罩,所述屏蔽罩外侧中心靠上处设有耦合线圈,所述腔体下内壁中心处设有支撑台,所述支撑台上端面中心处设有基片,所述支撑台上端面中心处设有辅助装置,所述辅助装置包括环形块,所述环形块外侧中心处呈上下排列设有多个通孔,所述环形块一端部处设有第一磁块,所述环形块另一端部处设有第二磁块,所述第一磁块与第二磁块之间相互吸附,所述环形块下端面中心处设有插环。本实用新型中,通过辅助装置使其能够提高刻蚀的均匀性和一致性,从而提高了刻蚀工艺稳定性。

本实用新型提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构在权利要求书中公布了:1.提高刻蚀机稳定性用腔室辅助结构,包括腔体1和气体入口2,所述气体入口2设置在腔体1上端面中心处,其特征在于:所述腔体1上内壁中心处设有屏蔽罩3,所述屏蔽罩3外侧中心靠上处设有耦合线圈4,所述腔体1下内壁中心处设有支撑台5,所述支撑台5上端面中心处设有基片6,所述腔体1前端面中心靠下处设有密封门7,所述支撑台5上端面中心处设有辅助装置8; 所述辅助装置8包括环形块801,所述环形块801设置在支撑台5上端面处,所述环形块801外侧中心处呈上下排列设有多个通孔802,所述环形块801一端部处设有第一磁块803,所述环形块801另一端部处设有第二磁块804,所述第一磁块803与第二磁块804之间相互吸附,所述环形块801下端面中心处设有插环805。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人苏州工业园区雨竹半导体有限公司,其通讯地址为:215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。