台湾积体电路制造股份有限公司杨胜钧获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利处理半导体基板的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115527886B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210152932.2，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权处理半导体基板的系统及方法是由杨胜钧;黄柏智;郑智龙;林艺民;廖侦皓;鍾旻成设计研发完成，并于2022-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本处理半导体基板的系统及方法在说明书摘要公布了：一种用于在半导体基板的处理腔室的出入口上方产生气幕的系统及方法。气流稳定器及气流接收器，各个包括合作以产生气幕的水平流动段及垂直流动段，该气幕阻碍处理腔室之外的气体，例如，氧，流入腔室中，举例而言，在出入口打开以添加或自处理腔室移除工件时。
本发明授权处理半导体基板的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种处理半导体基板的系统，其特征在于，该系统包含： 一处理腔室； 一暂存模块，用于在将一基板输送至该处理腔室之前暂存该基板； 一出入口，在该处理腔室与该暂存模块之间，该基板经由该出入口在该暂存模块与该处理腔室之间传递； 一气流稳定器，定位于邻近该出入口，该气流稳定器包括： 一水平流动段，包括多个重叠的水平气流路径，该多个重叠的水平气流路径的每一个在水平方向上与前一个水平气流路径相反；及 一垂直流动段，包括多个垂直气流路径，该气流稳定器的该水平流动段上覆该气流稳定器的该垂直流动段。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人台湾积体电路制造股份有限公司，其通讯地址为：中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励