航天科工微电子系统研究院有限公司武春风获国家专利权
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龙图腾网获悉航天科工微电子系统研究院有限公司申请的专利一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116087919B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211516996.2,技术领域涉及:G01S7/497;该发明授权一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法是由武春风;周啟帆;张贵清;谢峰;吴丰阳;刘明川设计研发完成,并于2022-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法在说明书摘要公布了:本申请涉及一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法,包括以下步骤:调节转台和望远筒旋转,记录可见导引光在光轴同步相机上的轨迹;计算出轨迹的圆心,以轨迹的圆心为中心,以快速反应镜的半个行程对应于光轴同步相机上的成像距离为半径,在光轴同步相机上作圆;以可见光相机的视场中心为基准点O1或以可见光相机视场中心和轨迹圆心所作连线与轨迹的交点为基准点O1;依据基准点O1,将光轴同步相机的视场中心拉到O1点上;找出O1点在可见光相机上对应的成像位置,记录为O2点;找出O2点在红外相机上对应的成像位置,记录为O3点。本申请无需借助外部设备,使精跟踪标定过程变简单,成本低,方便操作,足以保证目标跟踪点与激光打击点为同一点。
本发明授权一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法在权利要求书中公布了:1.一种精跟踪成像同轴共轭的光学基准标定方法,其特征在于,所采用的设备包括:转台1、跟踪架2、俯仰轴架3和望远筒4,所述跟踪架2转动装配于所述转台1上且转动轴线竖向布置,所述俯仰轴架3安装于所述跟踪架2上,所述望远筒4转动装配于所述俯仰轴架3上且转动轴线水平布置,所述转台1内设置有导引光源5和滤光片6,所述导引光源5与主激光调至同轴,所述滤光片6具有两个档位且分别用于通过可见导引光或红外导引光,所述望远筒4上安装有相机组合,所述相机组合包括红外相机7、光轴同步相机8和可见光相机9,所述相机组合和所述导引光源5之间设置有光路镜组,所述光路镜组安装于所述跟踪架2和所述望远筒4的内部,所述光路镜组中包括电动调镜和快速反应镜,所述导引光源5发出的引导光经过所述滤光片6后通过所述光路镜组反射或透射至所述相机组合中; 所述光学基准标定方法包括以下步骤: 步骤一,开启导引光源5,切换滤光片6,可见导引光从滤光片6通过,可见导引光通过光路镜组依次在光轴同步相机8、可见光相机9上成像; 步骤二,调节转台1和望远筒4旋转,在旋转过程中记录可见导引光在光轴同步相机8上的轨迹,调节电动调镜,使光轴同步相机8上的形成轨迹的面积最小; 步骤三,计算出轨迹的圆心,以轨迹的圆心为中心,以快速反应镜的半个行程对应于光轴同步相机8上的成像距离为半径,在光轴同步相机8上作圆; 步骤四,如果光轴同步相机8的视场中心在所作圆半径内,以可见光相机9的视场中心为基准点O1,如果可见光相机9的视场中心在所作圆半径外,以可见光相机9视场中心和轨迹圆心所作连线与轨迹的交点为基准点O1; 步骤五,依据所确定的基准点O1,操控快速反应镜,将光轴同步相机8的视场中心拉到O1点上; 步骤六,找出O1点在可见光相机9上对应的成像位置,记录为O2点,可见光相机9以O2点为观察基准点; 步骤七,切换滤光片6,红外导引光从滤光片6通过,红外导引光通过光路镜组依次在可见光相机9、红外相机7上成像; 步骤八,找出O2点在红外相机7上对应的成像位置,记录为O3点,红外相机7以O3点为观察基准点; 步骤九,O1点所对应的位置即为激光打击基准点,O2点为可见光相机9的精跟踪控制中心,O3点为红外相机7的精跟踪控制中心,将O2点或O3点对准目标毁伤部位,打击时精跟踪控制中心即为打击点。
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