卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司T·格鲁纳获国家专利权
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龙图腾网获悉卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司申请的专利光学系统与操作光学系统的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116324621B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080104310.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光学系统与操作光学系统的方法是由T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克;A·迪劳夫设计研发完成，并于2020-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学系统与操作光学系统的方法在说明书摘要公布了：本发明关于光学系统，特别是用于微光刻，且本发明关于用以操作光学系统的方法。根据本发明一方面，光学系统包含：至少一个反射镜100,500,600，其具有光学有效表面101,501,601以及反射镜基板110,510,610，其中冷却流体能够流动于其中的至少一个冷却通道115,515,615配置在反射镜基板中，以消散由于吸收了从光源入射在光学有效表面上的电磁辐射而在反射镜基板中产生的热；以及调整单元135,535,635，用以根据将反射镜基板中热负载特征化的测量量值或根据在光源的给定功率下在反射镜基板中所预期的估计热负载，来调整冷却流体的温度和或流速。
本发明授权光学系统与操作光学系统的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学系统，包含： 至少一个反射镜，其具有光学有效表面以及反射镜基板，其中形成在该反射镜基板内的至少一个冷却通道配置为接收冷却流体，所述冷却流体适合于在该反射镜基板内流动，以消散由于吸收了从光源入射在该光学有效表面上的电磁辐射而在该反射镜基板中产生的作为热负载的热； 加热器，布置为以空间可变的方式加热所述反射镜； 控制器，配置为根据特征化该反射镜基板中的该热负载的测量量值或根据针对该光源的给定功率针对该反射镜基板所确定的估计热负载，来调整该冷却流体的温度和或流速，以及配置为控制该加热器以不同地加热该光学有效表面的两个或更多个空间区域以使该光学有效表面局部变形，并且同时控制该冷却通道以全局冷却该反射镜基板。
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