上海华力集成电路制造有限公司薛芳琦获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利半导体器件版图设计规则的检查方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116402014B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310183724.3,技术领域涉及:G06F30/398;该发明授权半导体器件版图设计规则的检查方法是由薛芳琦;许烨东设计研发完成,并于2023-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体器件版图设计规则的检查方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种半导体器件版图设计规则的检查方法,通过先判断待检查图形的每条边的所在区,然后根据待检查图形的每条边所在区进行相应的设计规则检查,以判断待检查图形是否符合设计规则,其中,待检查图形的边位于存储区则按照存储区设计规则进行检查,待检查图形的边位于逻辑区则按照逻辑区设计规则进行检查,待检查图形的边位于存储区和逻辑区则按照存储区设计规则进行检查。如此,可以全面的对待检查图形的所有边进行相应的设计规则检查,同时,待检查图形的每条边仅按照一种设计规则进行检查,可以减少检查过程中的报错,缩短了检查时间,提高了版图的设计效率。
本发明授权半导体器件版图设计规则的检查方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体器件版图设计规则的检查方法,其特征在于,包括: 提供半导体器件版图,所述半导体器件版图具有存储区和逻辑区,所述逻辑区围绕所述存储区设置,所述半导体器件版图包括多个待检查图形,所述待检查图形至少具有四条边,所述待检查图形的边位于存储区和或逻辑区; 判断所述待检查图形的每条边的所在区; 根据所述待检查图形的每条边所在区进行相应的设计规则检查,以判断所述待检查图形是否符合设计规则,其中,待检查图形的边位于存储区则按照存储区设计规则进行检查,待检查图形的边位于逻辑区则按照逻辑区设计规则进行检查,待检查图形的边位于存储区和逻辑区则按照存储区设计规则进行检查。
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